產(chǎn)品時(shí)間：2026-06-10
訪(fǎng)問(wèn)量：1868
廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家
生產(chǎn)地址：
| 品牌 | 其他品牌 |
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磁控濺射儀(含靶材4片） ZX/GEMINI-500
技術(shù)參數(shù)
真空泵.--(泵油)旋轉(zhuǎn)真空泵
旋轉(zhuǎn)真空泵轉(zhuǎn)速50 Hz: 8 m2/h (2.2 L/s) / 60 Hz: 9.6m%/h (2.6 L/s)
JI限真空度2Pa
濺射電流≤100mA
工作壓力2Pa - 10Pa
抽真空時(shí)間<5 Min (2 Pa)
磁控濺射儀(含靶材4片） ZX/GEMINI-500
真空測(cè)量 測(cè)量范圍從大氣壓到2x102mbar
氣體控制氣體流量控制閥
腔體尺寸φ186*120mm(高)抗刮石英玻璃
磁控靶源 靶尺寸φ50/ 濺射靶源:金、銀、鉑
操作方法 操作手冊(cè)。
重量/尺寸30kg/430mm 長(zhǎng)x 390mm 寬x 420mm 高
工作電源AC 220V 50Hz
電源功率<2000W
冷卻方式 電制冷(選配)
磁控濺射儀(含靶材4片） ZX/GEMINI-500
自動(dòng)化鍍膜流程
全流程自動(dòng)運(yùn)行減少人工誤差提|升|重復(fù)性與效率
GAO兼容性與均勻沉積
兼容多種靶材適配多類(lèi)樣品沉積均勻一致
熱敏樣品保護(hù)熱敏濺射功能功率緩慢爬升降低樣品受熱風(fēng)險(xiǎn)
操作與模塊化設(shè)計(jì)
觸控操作直觀(guān)
模塊化便于升JI維護(hù)加便捷
